- 반도체 공동연구소 시설 견학 및 설명
- 반도체 공정시 유의 사항 및 공정 트렌드 습득
- 산화, 확산, 사진식각, 금속공정 등의 반도체 단위공정 실습
- 상기 단위공정을 기반으로 MOS 커패시터 제작 및 측정
- 시험(퀴즈)를 통한 단위 공정 및 MOS 커패시터 이해도 분석
[전자정보통신공학과] 2024-1 반도체공동연구소 학부생 공정실습 교육
- 전체 학생
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- 전체 학과
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전공역량강화프로그램 답사/견학/실습
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electrodpt@sejong.ac.kr
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02-3408-3329
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서울대학교 반도체공동연구소 설계연구관 교육지원실 219호
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세부내용
- 반도체 공동연구소 시설 견학 및 설명
- 반도체 공정시 유의 사항 및 공정 트렌드 습득
- 산화, 확산, 사진식각, 금속공정 등의 반도체 단위공정 실습
- 상기 단위공정을 기반으로 MOS 커패시터 제작 및 측정
- 시험(퀴즈)를 통한 단위 공정 및 MOS 커패시터 이해도 분석
반도체 인력 양성을 위해 실습을 통한 공정기술에 대한 학생들의 이해력을 제고하고자 합니다.
반도체공동연구소의 시설 견학과 단위 공정 실습을 통해 실전 감각 배양을 합니다.
MOS 커패시터 설계와 제작 및 특성 분석을 통하여 공정기술에 대한 이해력 함양을 도모합니다.
반도체 관련 기업 취업을 위한 역량 강화를 합니다.
프로그램 후기
- 번호 프로그램명 프로그램 운영기간 주역량 작성자 작성일
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